정부가 첨단 반도체 제조 공정에서 필수적으로 사용되는 극자외선(EUV) 장비의 도입 절차를 대폭 간소화한다고 발표했다. 이로 인해 장비 도입에 걸리는 기간은 최대 25일 단축될 것이며, 각 장비당 약 5억 원의 검사 비용이 절감될 전망이다. 이는 삼성전자와 SK하이닉스 등 국내 주요 반도체 기업의 효율성을 높이기 위한 정부의 적극적인 제도 개선으로 해석된다.

EUV 장비는 반도체 웨이퍼에 정밀하게 회로를 새기는 공정에 사용되며, 이 분야에서 네덜란드 기업 ASML이 사실상 시장을 독점하고 있다. 이러한 최신 장비는 한 대당 가격이 5000억 원을 웃도는 고가의 장비로, 도입 과정에서의 규제로 인해 선진국 대비 경쟁력이 저하될 우려가 제기되어 왔다.

산업통상부는 2일 고압가스 안전관리법 시행령의 개정안을 국무회의에서 의결했다고 밝혔다. 이번 시행령 개정안을 통해, 세계적인 안전 기준을 충족한 반도체 제조 장비는 고압가스 일반 제조시설이 아닌 '특정설비' 기준으로 분류되어 더욱 신속하게 도입될 수 있게 된다. 기존에는 EUV 장비가 내부에 고압가스 배관과 장치를 포함하여 '고압가스 제조설비'로 간주되었기 때문에 매번 설치할 때마다 기술 검토와 검사를 받아야 했다. 이 과정에서 종종 장비 도입이 지연되고, 기업에 추가적인 부담이 발생한다는 의견이 많았다.

제도 개선에 따라 EUV 장비는 이제 3년 주기로 공장 심사와 종합 공정검사를 통해 기존 수요와 안전성을 인정받을 수 있게 된다. 검사 소요 기간은 기존 34일에서 크게 줄어들어 기술 검토 기간이 15일에서 2일로 단축되고, 중간검사는 없애 특약에 따른 비용 부담이 사라진다. 완성검사 또한 7일에서 2일로 줄어들어 기업들이 전반적인 도입 기간을 짧아지고 비용을 절감할 수 있게 된다.

이 외에도 산업부는 EUV 장비 규제 합리화뿐만 아니라, 액화 이산화탄소 세정설비에 대한 맞춤형 검사 기준 신설을 통해 첫 번째 상용화를 위한 법적 환경을 조성하고 있다. 이는 물과 세탁세제를 대신하여 이산화탄소를 사용해 세척하는 혁신적인 기술로, 현대 산업의 환경 친화적인 방향전환을 보여준다. 또한, 위험성이 낮은 고압가스시설의 안전관리자 선임 기준도 실질에 맞게 정비되었다.

개정안은 다음 주 공포 후 즉시 시행될 예정이다. 김정관 산업부 장관은 이번 법령 개정이 안전성과 첨단 산업의 경쟁력 강화를 동시에 달성하기 위한 중요한 규제 혁신 사례라고 강조했다. 이러한 변화는 국내 반도체 산업이 지속 가능하고 효율적인 생산 체제를 구축하는 데 도움이 될 것으로 보인다.