인텔이 향후 반도체 산업에서 초격차를 이루기 위해 '3개의 기회'를 잡았다. 이는 네덜란드 기업 ASML의 최신 극자외선(EUV) 노광 장비와 한국 인재 이석희, 그리고 트럼프 전 대통령의 정부 지원을 통한 혁신적인 전환을 의미한다.

인텔은 한때 세계 1위 종합반도체 기업으로 군림했으나, 2000년 이후 TSMC와 삼성전자와의 기술 혁신 경쟁에서 뒤처졌다. 그러나 최근 인텔은 과거의 영광을 되찾기 위해 강력한 언더독으로 부상하고 있다. 외신 보도와 업계 발표를 살펴보면, 인텔의 현재 동향에는 ‘3개의 기회’가 포착된다. 첫 번째 기회는 하이NA EUV 장비, 두 번째는 이석희 전 SK하이닉스 사장, 세 번째는 트럼프 전 대통령의 정책적 지원이다.

첫 번째 기회로 ASML에서 개발한 차세대 하이NA EUV 장비가 주목받고 있다. 이는 TSMC와 삼성전자가 사용하는 구형 1세대 장비가 아닌, 더욱 향상된 2세대 장비로, 반도체 제조의 핵심인 노광 공정을 통해 더 미세한 회로를 구현할 수 있다. 인텔은 이러한 기술을 선제적으로 도입하여 TSMC와 삼성전자를 추격하고 있다. 하이NA EUV 장비는 각종 트랜지스터와 배선 구조를 안정적으로 그릴 수 있는 능력을 갖추고 있으며, 이는 반도체 성능의 기반이 된다. 대당 가격이 5000억 원이 넘는 이 장비를 인텔이 상업화에 성공한다면, 전 세계 고객사의 관심이 몰릴 가능성이 커지고 있다.

두 번째 기회는 이석희 전 SK하이닉스 사장의 영입이다. 인텔은 그를 파운드리 수석부사장으로 영입해 첨단 패키징 및 시스템 통합 분야를 책임지도록 했다. 이 전 사장의 현장 실무 경험과 직관은 인텔이 필요로 하는 혁신적인 요소로 평가받고 있다. 이는 복잡한 공정에서 발생하는 오류를 해결하고, 경과하던 직관 및 경험을 시스템화하여 안정적인 수율을 보장하는 데 기여할 것이다.

세 번째 기회는 트럼프 전 대통령의 정부 지원이다. 트럼프 정부는 인텔에 대한 지원금을 인수 지분으로 전환하여, 인텔이 주요 기업들의 반도체 수탁 생산을 활용하도록 촉구하고 있다. 이는 인텔에게 기술적 우위를 가져다주는 동시에 미국 내 제조업 강화라는 국가적 의제에도 부합한다.

인텔은 이 세 가지 기회를 통해 반도체 산업에서의 놀라운 성장을 이끌어낼 것으로 기대된다. 과거와 같은 불확실한 상황 속에서도 이러한 유리한 조건들이 맞물려 돌아간다면, 인텔은 초격차 기업으로 거듭나는 발판을 마련할 수 있을 것이다. 하지만 K반도체 업계에선 이러한 기회가 그리 단순하지 않다. 관련 기업들은 매출 극대화를 위해 성과급 경쟁을 이어가는 상황에서, 정부의 정책 또한 불확실성을 더하고 있다. 과연 K반도체가 지역적 지원을 받아 순풍을 탈지, 혹은 역풍을 맞을지는 더 지켜보아야 할 일이다.